材料工程硕士论文提纲格式

时间：2024-08-19 07:05:22 材料毕业论文我要投稿

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材料工程硕士论文提纲格式3篇

　　材料工程硕士论文提纲格式一

　　摘要 4-5

材料工程硕士论文提纲格式3篇

　　ABSTRACT 5-6

　　目录 7-10

　　第一章绪论 10-24

　　1.1 引言 10

　　1.2 纳米材料的定义及维度分类 10-11

　　1.3 纳米晶的基本性质 11-12

　　1.4 II-VI 族镉基半导体简介 12-16

　　1.4.1 II-VI 族半导体简介 12-13

　　1.4.2 镉基半导体介绍 13-16

　　1.5 II-VI 族半导体纳米晶的光电应用 16-22

　　1.5.1 II-VI 族半导体纳米晶的太阳能电池应用 16-20

　　1.5.2 II-VI 族半导体纳米晶的光探测器应用 20-22

　　1.6 本论文的'研究思路和创新之处 22-24

　　第二章实验原料与实验装置 24-34

　　2.1 实验原料 24-25

　　2.2 实验装置 25-27

　　2.2.1 超声波清洗器(SK2200LH) 25

　　2.2.2 电子天平 25

　　2.2.3 真空干燥箱 25-26

　　2.2.4 拉膜机 26

　　2.2.5 马弗炉 26

　　2.2.6 真空管式炉 26

　　2.2.7 移液枪 26-27

　　2.2.8 Keithley2611 数字源表 27

　　2.2.9 离心机 27

　　2.3 表征手段 27-29

　　2.3.1 表面形貌表征(SEM) 27

　　2.3.2 成分分析(EDS) 27

　　2.3.3 结晶相分析(XRD) 27-28

　　2.3.4 微观结构分析(TEM) 28

　　2.3.5 紫外-可见分光光度计(UV-1901) 28

　　2.3.6 电池/光响应性能测试系统 28-29

　　2.4 实验方法 29-34

　　2.4.1 FTO 的清洗 29

　　2.4.2 水热法制备 CdS 量子点 29

　　2.4.3 水热法制备 PS 微球 29-30

　　2.4.4 真空自组装法制备多孔密堆 CdS 量子点结构 30

　　2.4.5 水热法制备 ZnO 纳米线 30-31

　　2.4.6 电沉积法制备 CdS 纳米晶 31-32

　　2.4.7 电沉积法制备 CdSe 纳米晶 32

　　2.4.8 CVD 法生长 Cd 纳米片阵列 32

　　2.4.9 气相转化法制备 CdTe 纳米片阵列 32-34

　　第三章高导电性三维多孔结构 CdS 量子点太阳能电池 34-47

　　3.1 引言 34-35

　　3.2 实验过程 35

　　3.3 结果及讨论 35-46

　　3.3.1 三维多孔密堆 CdS 阳极的制备 35-36

　　3.3.2 电沉积后处理 CdS 骨架改善阳极导电性 36-44

　　3.3.3 电沉积后处理 CdSe 提升光电转换性能 44-46

　　3.4 本章小结 46-47

　　第四章 CdTe 纳米片层阵列的气相模板法制备及光响应性能 47-60

　　4.1 引言 47-48

　　4.2 实验过程 48

　　4.3 结果及讨论 48-58

　　4.3.1 镉纳米片阵列的 CVD 法制备及表征 48-49

　　4.3.2 碲化镉纳米片阵列的模板法制备及表征 49-51

　　4.3.3 不同处理工艺对产物形貌、物相的影响比较 51-54

　　4.3.4 普通升温(NH)与快速升温(PIH)作用区别的比较 54-55

　　4.3.5 CdTe 纳米结构的光电性能比较 55-58

　　4.4 本章小结 58-60

　　第五章电沉积参数对 CdSe 敏化太阳能电池光电转换效率的影响 60-74

　　5.1 引言 60-61

　　5.2 实验过程 61

　　5.3 结果及讨论 61-72

　　5.3.1 ZnO NWs/CdS/CdSe 三元电池结构的制备及表征 61-65

　　5.3.2 电沉积 CdS 时间的优化 65-66

　　5.3.3 电沉积制备 CdSe 敏化层薄膜工艺参数的优化 66-72

　　5.4 本章小结 72-74

　　第六章全文总结 74-75

　　参考文献 75-82

　　发表论文和参加科研情况说明 82-83

　　致谢 83-84

　　材料工程硕士论文提纲格式二

　　摘要 4-5

　　ABSTRACT 5

　　第一章绪论 8-20

　　1.1 热喷涂技术的分类及特点 8-9

　　1.2 超音速火焰喷涂技术(HVOF)的工作原理和发展历程 9-13

　　1.2.1 超音速火焰喷涂技术的工作原理 9-10

　　1.2.2 超音速火焰喷涂技术的发展历程和现状 10-13

　　1.2.3 HVOF 喷涂的应用和前景 13

　　1.3 WC-Co 金属陶瓷涂层 13-18

　　1.3.1 WC 的性质 13-14

　　1.3.2 Co 的性质 14-15

　　1.3.3 用于热喷涂的 WC-Co 金属陶瓷粉末制备方法 15-16

　　1.3.4 WC-Co 涂层的应用 16-17

　　1.3.5 HVOF 喷涂 WC-12Co 的研究现状 17-18

　　1.4 本课题的背景、意义及主要研究内容 18-20

　　第二章 WC-12Co 涂层磨损机理的研究 20-31

　　2.1 实验部分 20-24

　　2.1.1 实验材料与涂层的制备 20-22

　　2.1.2 涂层孔隙率的测试 22-23

　　2.1.3 涂层显微硬度测试 23

　　2.1.4 摩擦实验与显微分析 23-24

　　2.2 结果与讨论 24-30

　　2.2.1 涂层组织结构 24-25

　　2.2.2 涂层的物相分析 25-26

　　2.2.3 涂层的摩擦磨损性能 26-28

　　2.2.4 摩擦机理讨论 28-30

　　2.3 小结 30-31

　　第三章 Al 元素机械合金化的 WC-12Co 粉末和涂层的制备 31-41

　　3.1 机械合金化与球磨 32-39

　　3.1.1 机械合金化的发展概况 32-33

　　3.1.2 机械合金化球磨装置及其磨碎机理 33-35

　　3.1.3 行星球磨机的公转速度、填充系数和球料比对球磨的影响 35

　　3.1.4 WC-12Co 粉末和 Al 粉末的`球磨机理 35-37

　　3.1.5 WC-12Co-3Al 喷涂粉末的制备 37-39

　　3.2 WC-12Co-3Al 涂层的制备 39-40

　　3.2.1 喷涂前的预处理 39

　　3.2.2 WC-12Co-3Al 涂层的制备 39-40

　　3.3 结论 40-41

　　第四章 WC-12Co-3Al 涂层的性能研究 41-52

　　4.1 WC-12Co-3Al 粉末的分析 41-43

　　4.2 WC-12Co-3Al 涂层的分析 43-51

　　4.2.1 WC-12Co-3Al 涂层的物相分析 43-44

　　4.2.2 WC-12Co-3Al 涂层显微结构分析 44-46

　　4.2.3 WC- 12Co-3Al 涂层耐磨损性能分析 46-50

　　4.2.4 WC-12Co-3Al 涂层的热处理 50-51

　　4.3 小结 51-52

　　第五章结论 52-53

　　参考文献 53-57

　　发表论文和参加科研情况说明 57-58

　　致谢 58

　　材料工程硕士论文提纲格式三

　　摘要 4-5

　　Abstract 5

　　1 绪论 9-17

　　1.1 引言 9

　　1.2 黑化技术的发展及趋势 9-15

　　1.2.1 热碱发蓝 9-10

　　1.2.2 常温发黑 10-12

　　1.2.3 黑色磷化 12-13

　　1.2.4 QPQ 工艺 13

　　1.2.5 真空离子镀黑色 Ti-N 膜技术 13-14

　　1.2.6 化学复合镀黑镍技术 14

　　1.2.7 急冷发黑处理 14-15

　　1.3 课题研究的目的、意义和研究内容 15-17

　　1.3.1 课题研究的目的和意义 15

　　1.3.2 课题研究内容 15-17

　　2 实验部分 17-25

　　2.1 实验材料和仪器 17-18

　　2.1.1 实验基材 17

　　2.1.2 实验试剂及仪器 17-18

　　2.2 实验方法 18-19

　　2.2.1 黑色磷化工艺流程 18

　　2.2.2 QPQ 工艺流程 18-19

　　2.2.3 常温发黑工艺流程 19

　　2.2.4 急冷发黑工艺流程 19

　　2.3 各工序的基本作用 19-21

　　2.3.1 喷砂 20

　　2.3.2 表调 20

　　2.3.3 黑色磷化 20

　　2.3.4 皂化封闭 20

　　2.3.5 去油 20-21

　　2.3.6 酸洗 21

　　2.3.7 氮化 21

　　2.3.8 氧化 21

　　2.3.9 发黑 21

　　2.3.10 急冷发黑 21

　　2.4 磷化液分析及表面膜层性能测试 21-25

　　2.4.1 磷化液分析 21-22

　　2.4.2 外观检测 22

　　2.4.3 黑化膜耐蚀性测试 22-23

　　2.4.4 机械强度测试 23

　　2.4.5 HRC 硬度检测 23

　　2.4.6 黑化膜层表面形貌观察 23

　　2.4.7 黑化膜 XRD 分析 23-25

　　3 黑色磷化工艺研究 25-31

　　3.1 表调工艺对黑化膜的`影响 25-27

　　3.1.1 表调时间对黑化膜的影响 25-26

　　3.1.2 表调温度对黑化膜的影响 26

　　3.1.3 表调剂浓度对黑化膜的影响 26-27

　　3.2 磷化工艺对黑化膜的影响 27-29

　　3.2.1 游离酸及总酸的影响 27

　　3.2.2 磷化液浓度的影响 27-28

　　3.2.3 磷化温度的影响 28-29

　　3.2.4 磷化时间的影响 29

　　3.3 小结 29-31

　　4 QPQ 处理工艺探索 31-35

　　4.1 氮化温度对黑化膜的影响 31

　　4.2 氧化温度对黑化膜的影响 31-32

　　4.3 氧化时间对黑化膜的影响 32-33

　　4.4 小结 33-35

　　5 其它发黑工艺研究 35-45

　　5.1 常温发黑工艺 35-36

　　5.1.1 发黑剂浓度对黑化膜的影响 35

　　5.1.2 发黑时间对黑化膜的影响 35-36

　　5.2 急冷发黑工艺 36-37

　　5.2.1 冷却液对黑化膜的影响 36-37

　　5.3 复合表面处理技术 37-43

　　5.3.1 常温发黑后黑色磷化与黑色磷化后常温发黑 37-38

　　5.3.2 预发黑→黑色磷化复合工艺研究 38-43

　　5.4 小结 43-45

　　6 粉末注射件磷化发花试样与复合处理合格试样对比分析 45-57

　　6.1 XRD 检测 45-48

　　6.2 表面形貌和成分 48-55

　　6.3 小结 55-57

　　7 结论 57-59

　　参考文献 59-61

　　致谢 61-63

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