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探试研牙釉质龋表层带形成的原因
【关键词】牙釉质 龋 表层带
龋发展过程中，釉质内出现四层有特征性的带，他们分别代表了龋破坏的不同阶段。在四层病变中，表层带是一层相对完整、损害较轻的薄带，研究它的形成机理对理解龋损的破坏与修复有着重要意义。有人认为表层带的形成与表层釉质结构有关，也有人提出周围环境、致龋条件决定了表层带形成。本文通过对自然龋形态的观察及人工龋实验结果的分析，着重讨论了表层带的厚度及形成原因。
材料与方法
1 自然龋牙：口腔外科拔除的表面有白垩改变的早期釉质龋牙100例。沿龋损区纵剖开磨成100~xm厚的牙薄片，在正交偏光下分别经水、乙醇、喹啉介质浸渍，观察釉质龋表层病变的形态变化。
2 人上龋模型：本实验共用正常牙4O颗，分切后得牙块，平均分为10组，每组牙在各自的条件下制成人工龋。本实验用的三种致龋方法是：(1)酸性明胶人工龋：用国产明胶分别配成11%、5% 、3.5%和2%浓度的明胶液，溶液含有0.1M的乳酸液，用10raM NaOH将PH调至4.6。实验用牙分组方式是：① 同一牙分切成3块，共用1O颗牙，在5% 、3.5%和2%酸性明胶液内浸泡。(2)酸钙人工龋：配好的含有0.1M乳酸液内加入定量羟磷灰石溶液，溶液内钙离子浓度为3ram。
用NaOH将PH调至4.6。每一实验用牙分切成二块，其中一块磨去表层釉质，共用1O颗牙。(3)乳酸酸蚀人工龋：0.1M乳酸液，用NaOH将PH调至4.6。共用1O颗牙。用指甲油涂在正常牙面，留约1.2 mnl宽、5—7叫n长的开窗面，将涂好的牙悬挂在人工致龋液内，致龋液保持37℃恒温。明胶乳酸液每三周换一次，酸钙人工致龋液每二天换一次，单纯乳酸液不换液，泡三天。
结果
1 自然龋的表层带：用水浸渍釉质龋磨片，偏光镜下见100例早期釉质龋中9O例表面有一层负性双折射的薄带，称表层带。表层带平均厚度在40/xm，最薄15 m，最厚180/.zm。76% 的表层带厚度在15— 45 m内。表层下方是正性双折射区，为损害体部。如将浸渍介质换为喹啉或进口树胶，表层带下方的正性双折射区转变为负性双折射，表层带和损害体部融为一体。故当用喹啉或进口树胶作浸渍介质时，没有表层带出现。1O例没有表层带的釉质龋中有6例龋损深度已超过500um。
2 酸性明胶人工龋的表层带：5% 、11% 、酸性明胶使未去表层釉质形成有表层带的人工龋，而2% 、3.5%酸性明胶液造成的人工龋中没有表层带出现。统计结果表明由11% 和5% 酸性明胶液形成的表层带厚度没有显著性差异。当表层釉质被去除后，则5%酸性明胶不能形成表层带。5% 酸性明胶使未去表层釉质形成表层带，而去表层釉质不形成表层带，说明釉质表层结构与表层带形成有一定关系。用Il%酸性明胶液浸泡去表层釉质的实验结果是：10例去表层人工龋中5例有很厚的表层带出现，平均厚度为141 m。其余5例仅有透明层，没有表层带、损害体部和暗带出现。
3 酸钙人工龋的表层带：含有3mM钙离子的乳酸液可使未去表层釉质形成表层下脱矿，表层带平均厚15.56Ixm.去表层釉质没有表层带形成。
4 乳酸酸蚀人工龋表层带：在PH4.6，0 1M乳酸浓度下，去表层和未去表层釉质均无表层带形成。偏光镜下见部分表层釉质放蚀去，残留的酸蚀釉质为正性双折射区。
讨论
1 表层带的厚度：偏光显微镜、软射线片和扫描电镜均可用于表层带厚度的测量。多年来，许多学者对表层带的厚度进行了研究，其所测得厚度，偏光镜下表层带平均厚401xm。观察中还发现5例表层带厚度超过120/xm的早期自然釉质龋损。人f龋表层带厚度多低于自然龋。酸钙人工龋表层带仅有15um。11%酸件明胶人工龋表层带稍厚些。11%酸性明胶形成的表层带比5%酸性明胶形成者稍厚，但在统计学上二者没有显著性差异。本人认为表层带厚度与龋深度无关，如本研究自然龋标本中第16号表层带厚9O m，龋损深为165 m，而第20号龋已深达6521xm，表层带仪有15 m厚。用统计学方法处理100例龋损的结果表明龋损深度与表层带厚度之间无相关关系。
2 表层带的成因：30年代中外研究人员用显微射线法发现釉质龋表面有一层薄的阻射带。后来，表层带一词逐渐被接受..在人工龋实验中，去表层釉质仍能形成表层带，证明单从釉表层结构与表层下不同来解释表层带的形成是不完善的。也有人从物理化学角度来说明表层带的形成，认为表层带的固态和液态间化学动力学活动的结果。
本实验结果表明，表层带的形成与多种因素钉关，它是综合作用的结果。在Plq值保持不变的条件下，用5%酸性明胶或含有3raM钙离子的乳酸液制成人工龋时，未去表层釉质有表层带形成，去表层釉质不形成表层带。显然，釉质表层的特殊结构确实参与了表层带形成。11%酸性明胶使去表层釉质和未去表层釉质均形成表层带的结果说明，表层釉质结构不是造成表层下脱矿的唯一原因，外界环境也参与了表层带形成。基于11%酸性明胶可使去表层釉质和非去表层釉质均产生表层带的结果，可以认为环境因素的作用可能更重要。
菌斑是引起表层下脱矿的主要原因之一。以酸性明胶的性质与菌斑相似，它可能作为菌斑与釉质表面发生离子交换的体外模型。单纯乳酸液和低于5%酸性明胶液不能产生有表层带的人工龋。3.5%酸性明胶液形成的人工龋与无表层自然龋类似，5% 以上酸性明胶液形成有表层带人工龋等结果均说明明胶浓度与表层带形成有关。由此，可以认为在自然龋损形成过程中，菌斑粘度与表层带的形成有关。
综上所述，可推论PH值不变的条件下，介质浓度、表层釉质结构与是否形成表层带之间有一函数关系，只有在介质浓度和表层釉质结构相当的状况下，才能形成表层带。
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